SK hynix é a primeira a usar máquina de litografia High-NA EUV para fabricar DRAM

Fonte: Adrenaline

A SK hynix inaugurou nesta semana a primeira máquina Twinscan NXE:5200B do mundo. O equipamento é da ASML e será usado na fabricação de módulos DRAM usando tecnologia High-NA EUV, a mais avançada atualmente disponível. A máquina terminou de ser instalada na fábrica M16 da SK hynix em Icheon, na Coreia do Sul.

A ASML continua sendo a única fornecedora de maquinário para fabricação de chips com tecnologia EUV, e seus equipamentos estão disponíveis ao redor do mundo. A SK hynix, no entanto, vai sair na frente no uso dos processos para fabricar DRAM com High Numerical Aperture (High-NA).

A diferença indicada pelo nome é que a Twinscan NXE:5200B tem uma abertura numérica de 0,55, um aumento de 40% em relação a modelos passados de 0,33. Na prática, isso vai permitir a fabricação de transistores até 1,7 vez menores do que aqueles feitos por máquinas do tipo Low-NA EUV.

SK hynix toma dianteira no uso prático da tecnologia High-NA EUV em memórias

Conforme explica o TechSpot, a Intel já conta com uma Twinscan NXE:5000, que também usa High-NA EUV, e a Samsung também tem uma máquina dessas. No entanto, a Intel usa as máquinas em processadores e a Samsung ainda não começou a implementar a tecnologia em sua cadeia de produção.

Divulgação/ASML

Dessa forma, a SK hynix vai ser a primeira a de fato usar sua Twinscan NXE:5200B na fabricação de componentes DRAM – apesar de que não vai aproveitar todo o potencial da máquina logo no início.

Num primeiro momento o equipamento ainda será usado na fabricação de componentes que poderiam ser feitos em máquinas Low-NA EUV. Com o tempo, e acompanhando a demanda da indústria, a SK hynix vai migrar para a fabricação de módulos DRAM que usam nodos que só podem ser fabricados em High-NA EUV.

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